저널

The formation of Mn-ferrite by electrolysis
전해법에 의한 Mn-ferrite 생성

김유상;황용길;

동아대학교 공과대학 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 1, pp. 1-7.

DOI :

Effects of Composition of Substrate on Transverse Rupture Strength and Bonding Strength of Cemented Carbide Coated with Titanium Carbide by CVD Process
화학증착(CVD)법에 의한 TiC 증착 시 모재가 피복 초경합금의 항절력 및 접착력에 미치는 영향

이건우;오재현;이주완;

연세대학교 공과대학 금속공학과;대한중석(주) 중앙연구소;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 1, pp. 8-15.

DOI :

Effects of Underlayer (TiN, TiCN) on Transverse Rupture Strength, Bonding Strength and Cutting Tool Life of Cemented Carbide Coated with Titanium Carbide by CVD Process
화학증착(CVD)법에 의한 TiC 증착시 하부층(TiN, TiCN)이 피복 초경합금의 항절력, 접착력 및 공구수명에 미치는 영향

이건우;오재현;이주완;

연세대학교 공과대학 금속공학과;대한중석(주) 중앙연구소;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 1, pp. 16-23.

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Properties of Cr-N Films Prepared by the Arc-induced Ion Plating
아아크방전 유도형 이온플레이팅에 의한 Cr-N 피막의 특성

정재인;문종호;홍재화;강정수;이영백;

산업과학기술연구소 기초과학연구분야;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 1, pp. 24-33.

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Corrosion Behavior of TiN Ion Plated Steel Plate(I) -Effects of Ti interlayer and TiN coating thickness-
TiN 이온 플레이팅한 강판의 내식성에 관한 연구(I) - Ti 하지 코팅 및 TiN 코팅 두께의 영향 -

연윤모;한전건;김대진;배은현;

수원전문대학 용접공업과;성균관대학교 금속공학과;범진금속화학 연구소;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 1, pp. 34-39.

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A Characteristic and Use of Coated Sheet of Florinated Resin
불소 수지 도장 강판의 특성과 용도

이성일;차승수;

동부제강 기술연구소 표면처리연구팀;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 1, pp. 40-49.

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Effect of Coating Weight of Electroplated Sheet Steels on Quality Performances for Automotive Body Panels
자동차용 전기도금강재의 도금재착항별 품질생성

김태영;진영술;

산업과학기술연구소;표면처리연구소;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 2, pp. 57-65.

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Magnetite film on iron
강재의 마그네타이트 피복에 관한 연구

김헌규;강탁;
[Kim, H. G.;Kang, T.;]

서울 대학교 금속 공학과;
Seoul National University, Metal Eng.Sci.Dept.;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 2, pp. 66-72.

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Composite coating of Suspended Inert Particles in the Rotating Disk Electrode
회전원판 전극에서 비활성 현탁분체의 복합도금

박세용;김래현;김진성;최창균;

서울산업대학 화공과;서울대학교 화공과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 2, pp. 73-81.

DOI :

Corrosion Behavior of TiN Ion Plated Steel Plate(II)-Effects of Ni and Ni/Ti interlayers-
TiN 이온 플레이팅한 강판의 내식성에 관한 연구 (II)-Ni 및 Ni-Ti 하지코팅의 영향-

한전건;연윤모;홍준희;

성균관대학교 금속공학과;수원전문대학 용접과;범진금속화학연구소;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 2, pp. 82-89.

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Microsturctures of copper thin films sputtered onto polyimide
폴리이미드 위에 스퍼터 증착된 구리 박막의 미세구조

정태경;김영호;유진;
[Chung, Tae-Gyeong;Kim, Young-Ho;Yu, Jin;]

한국과학기술원 전자재료공학과;한양대학교 재료공학과;
Dept. of electronic materials science and engineering, KAIST;Dept. of materials engineering, Hanyang university;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 2, pp. 90-96.

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Effects of Pretreatment on the Adhesive Bonding of Aluminium Plate
Al 판재의 Adhesion Bonding에 미치는 전처리 영향

한성호;김만;장도연;노병호;
[Han, Seong-Ho;Kim, Man;Chung, Do-Yeon;Rho, Byug-Ho;]

한국기계연구원 표면공학실;
Surface Engineering, Lag., KIMM;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 2, pp. 97-102.

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Properties of the Gold and Palladium-Nickel Alloy Plated Layers on Electrical Contact Materials
접점상에 입힌 Au 및 Pd-Ni 합금도금층의 특성

백철승;장현구;김회정;

성균관대학교 공과대학 금속공학과;성균관대학교 공과대학 재료공학과;친화금속(주);

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 3, pp. 107-116.

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A Basic Study on the Continuous Purification of Zinc Chloride Plating Solution
전기아연도금조업에서 연화아합도금용술의 연질쟁액에 관한 공기연구

이선우;도만형;

한양대학교 공과대학 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 3, pp. 117-125.

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Fabrication of TaOx Thin Film on Si-Substrate by Photo-CVD Method
광화학기상성장법에 의한 Si 기판상에서의 TaO$_{x}$ 박막 제작에 관한 연구

한봉명;김수용;김경식;

한국과학기술원 물리학과;부산수산대학교 물리학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 3, pp. 126-132.

DOI :

TiN coatings by HCD plasma enhanced reactive ion plating method
HCD플라즈마를 이용한 반응성 이온플레이팅법에 의한 TiN 코팅

서용운;황기웅;

서울대학교 전기공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 3, pp. 133-143.

DOI :

Adsorption and Molecular Sieve Properties on the Natural Zeolite with Chemical Surface treatment
화학적 표면처리에 의한 천연 제올라이트의 흡착 및 분자체 특성

조승래;심미자;김상욱;

(주)신양 O.C. 연구개발실;서울시립대학교 화학공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 3, pp. 144-149.

DOI :

Recovery of Pure Alumina Powder from the Wasted Aluminum Etching Solution by Precipitation Method
알루미늄 에칭폐액으로부터 침전법에 의한 순수 알루미나분말의 회수

김기호;강병철;

충북대학교 공과대학 재료공학과;충북대학교 공과대학 재료공학과 대학원생;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 3, pp. 150-157.

DOI :

Thermodynamics of Simultaneous Chromizing and Aluminizing of the Mild Steel
연강에 Cr과 Al의 동시 확산 침투 피복의 열역학적 연구

김선규;신원순;

울산대학교 공과대학 금속공학과;대우조선 국민차 사업본부 기술 연구실;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 4, pp. 161-164.

DOI :

Effect of Distance Between Filler Particles on the Tensile Properties
충진 입자 계면간 거리가 물성에 미치는 영향

돈윤승;심미자;김상욱;

제일모직주식회사 화성연구소;서울시립대학교 공과대학 화학공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 4, pp. 165-172.

DOI :

Effects of Stabilizing Additives on Electroless Copper Deposition
무전해 동 도금용액 속에서 안정제의 역할

최순돈;박범동;

영남대학교 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 4, pp. 173-180.

DOI :

A study on the development of solution for the Crack Free Hard Chromium Deposits
Crack free 경질 크롬 도금욕 개발에 관한 연구

추현식;이홍로;

충남대학교 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 4, pp. 181-186.

DOI :

Selective Contact Hole Filling by electroless Ni Plating
무전해 Ni 도금에 의한 선택적 CONTACT HOLE 충전

우찬희;권용환;김영기;박종완;이원해;

한양대학교 공과대학 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 4, pp. 189-206.

DOI :

A study on the development of thin solid state batteries
박막 고체전지 개발에 관한 연구

권혁상;이홍로;

한국과학기술원 재료공학과;충남대학교 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 5, pp. 215-221.

DOI :

A Study of Structure & Composition Characteristics of the(Ti, Al) N Coating on the STS 304 by D.C. Magnetron Sputtering
D.C. Magnetron Sputter를 이용한 (Ti, Al) N 피막의 조성 및 조직특성연구

최장현;이상래;

부산대학교 공과대학원 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 5, pp. 223-233.

DOI :

High Temperature Oxidation Characteristics of the (Ti, Al)N Coating on the STS 304 by D.C. Magnetron Sputtering
D.C. Magnetron Sputter를 이용한 (Ti, Al)N 피막의 고온산화특성

최장현;이상래;

부산대학교 공과대학원 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 5, pp. 235-252.

DOI :

High Temperature Oxidation Characteristics of Ti-Al Intermetallic Compounds
Ti-Al계 금속간화합물의 고온산화특성

오인석;최창우;김길무;홍준표;김종집;

충남대학교 재료공학과;연세대학교 금속공학과;한국표준과학연구원;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 5, pp. 253-261.

DOI :

A study for development of high speed hard chrome plating solution
고속 경질 크롬 도금 용액 개발에 관한 연구

추현식;이홍로;

충남대학교 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 5, pp. 263-269.

DOI :

Effects of Deposition Parameters on the Bonding Structure and Optical Properties of rf Sputtered a-Si$_{1-x}$C$_{x}$: H films
RF 스퍼터링으로 증착된 a-Si$_{1-x}$C$_{x}$: H 박막의 결합구조와 광학적 성질에 미치는 증착변수의 영향

한승전;권혁상;이혁모;

한국과학기술원 재료공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 5, pp. 271-281.

DOI :

On the silicon nitride film formation and characteristic study by chemical vapor deposition method using electron cyclotron resonance plasma
전자 싸이클로트론 공명 플라즈마 화학 증착법에 의한 실리콘 질화막 형성 및 특성 연구

김용진;김정형;송선규;장홍영;

한국과학기술원 물리학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 6, pp. 287-292.

DOI :

Phase Changes of Vanadium Oxide Thin Films
산화 바나듐 박막의 상변화

선우진호;신인하;고경현;안재환;

아주대학교 재료공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 6, pp. 293-298.

DOI :

The Study for Titanium Nitride Synthesis and its mechanical properties by Nitrogen Ion Irradiation
산소이온 면사에 의한 티타늄질화물 합성 및 기계적 특성에 관한 연구

강태만;박윤우;한전건;

성균관대학교 공과대학 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 6, pp. 299-308.

DOI :

An investigation of characteristics of Au plating for telecommunication components
통신기자재용 금도금 특성 분석 연구

한전건;강태만;

성균관대학교 금속공학과;

한국표면공학회지, Vol. 25, No. 6, pp. 309-317.

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