Characterization of the SnAg Electrodeposits according to the Current Density and Cross-sectional Microstructure Analysis in the Cu Pillar Solder Bump
전류밀도에 따른 SnAg 도금층의 특성 및 Cu 필라 솔더 범프의 단면 미세구조 측정
김상혁;홍성기;임현호;이효종;
[Kim, Sang-Hyuk;Hong, Seong-Ki;Yim, Hyunho;Lee, Hyo-Jong;]
동아대학교 공과대학 신소재공학과;
Department of Material Science and Engineering, Dong-A University;
한국표면공학회지, Vol. 48, No. 4, pp. 131-135.
A Comparative Study of NbN Coatings Deposited by DC and Pulsed DC Asymmetric Bipolar Magnetron Sputtering
DC 스퍼터법과 비대칭 바이폴라 펄스 DC 스퍼터법으로 증착된 NbN 코팅막의 물성 비교연구
전성용;오복현;
[Chun, Sung-Yong;Oh, Bok-Hyun;]
목포대학교 신소재공학과;
Department of Advanced Materials Science and Engineering, Mokpo National University;
한국표면공학회지, Vol. 48, No. 4, pp. 136-141.
Effect of Equal Channel Angular Pressing on the Pitting Corrosion Resistance of Hard Anodized Al5052 Alloy
경질양극산화를 실시한 Al5052합금의 내공식성에 미치는 ECAP의 영향
손인준;
[Son, Injoon;]
경북대학교 신소재공학부 금속신소재공학전공;
Department of Materials Science and Metallurgical Engineering, Kyungpook National University;
한국표면공학회지, Vol. 48, No. 4, pp. 142-148.
Effect of Fabric Structure and Plating Method on EMI Shielding Property of Conductive Fabric
도전섬유의 전자파 차폐특성에 미치는 섬유구조 및 도금방법의 영향
김동현;이성준;
[Kim, DongHyun;Lee, SeongJoon;]
주식회사엠에스씨;
MSC Co. Ldt.;
한국표면공학회지, Vol. 48, No. 4, pp. 149-157.
Improving Conductivity of Metal Grids by Controlling Sintering Process
배선 함몰 전극의 배선 소결공정 최적화에 따른 전기적 특성 향상
안원민;정성훈;김도근;
[Ahn, Wonmin;Jung, Sunghoon;Kim, Do-Geun;]
재료연구소 표면기술연구본부 플라즈마공정연구실;
Plasma Processing Technology Department, Korea Institute of Materials Science;
한국표면공학회지, Vol. 48, No. 4, pp. 158-162.
Graphene Doping by Ammonia Plasma Surface Treatment
암모니아 플라즈마 표면처리를 통한 그래핀의 질소도핑
이병주;정구환;
[Lee, Byeong-Joo;Jeong, Goo-Hwan;]
강원대학교 대학원 신소재공학과;
Advanced Materials Science and Engineering, Graduate School of Kangwon National University;
한국표면공학회지, Vol. 48, No. 4, pp. 163-168.
Characterization of Hydrazine Solution Processed Multi-layered CuInSe2 Thin Films
하이드라진 용액법으로 형성된 CuInSe2 다층 박막 분석
정중희;
[Chung, Choong-Heui;]
한밭대학교 신소재공학과;
Department of Materials Science and Engineering, Hanbat National University;
한국표면공학회지, Vol. 48, No. 4, pp. 169-173.
Emission Characteristics of Dual-Side Emission OLED with Al Cathode Thickness Variation
Al 음극 두께 변화에 따른 양면 발광 OLED의 발광 특성
김지현;주성후;
[Kim, Ji-Hyun;Ju, Sung-Hoo;]
대진대학교 신소재공학과;
Department of Advanced Materials Science and Engineering, Daejin University;
한국표면공학회지, Vol. 48, No. 4, pp. 174-178.
Analysis of contaminated QMS, cleaning and restoration of functions
오염된 QMS의 원인 분석과 세정 및 기능 복원
김동훈;주정훈;
[Kim, Donghoon;Joo, Junghoon;]
군산대학교 대학원 플라즈마 융합공학과;
Department of Plasma Convergence Engineering, Kunsan National University;
한국표면공학회지, Vol. 48, No. 4, pp. 179-184.
Abstract
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