Characterization and Construction of Chemical Vapor Deposition by using Plasma
rf 플라즈마 화학기상증착기의 제작 및 특성
김경례;김용진;현준원;이기호;노승정;최병구;
단국대학교 자연과학부 응용물리전공;단국대학교 사범학부 과학교육전공;
한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 69-76.
DOI :
Effects of La Starting Compounds and type of substrates On the Densification of (P
La초기 화합물과 기판의 형태가 (P
박상면;
한국항공대학교 항공재료공학과;
한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 77-86.
DOI :
Effect of fluorine doping and heat treatment for SnO
SnO
류득배;이수완;박정일;박광자;
선문대학교 재료공학과;기술표준원 무기화학과;
한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 87-92.
DOI :
Pitting Behavior of Ti/TiN Film Coated onto AISI 304 Stainless Steel
AISI 304 스테인리스강에 코팅된 Ti/TiN film의 공식거동
박지윤;최한철;김관휴;
전남대학교 공과대학 금속공학과;광양대학 제철금속과;
한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 93-100.
DOI :
Development of Linear Annealing Method for Silicon Direct Bonding and Application to SOI structure
실리콘 직접 접합을 위한 선형가열법의 개발 및 SOI 기판에의 적용
이진우;강춘식;송오성;양철웅;
서울대학교 재료공학부;시립대학교 재료공학과;성균관대학교 금속재료공학부;
한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 101-106.
DOI :
New Technique of Spatial Printing of Materials for Arbitrary Shape Forming
임의의 형상 성형을 위한 새로운 공간 직접 성형 기술
이일한;정용재;김창경;
한양대학교 공과대학 재료공학부;한양대학교 응용화학공학부 세라믹공학과;
한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 107-114.
DOI :
A Study on the Characteristics of TiN film deposited using Reactive Magnetron Sputter ion Plating
Reactive Magnetron Sputter ion Plating법으로 증착된 TiN 박막의 특성에 관한 연구
이민구;김흥회;김선재;이창규;김영석;
한국원자력연구소;
한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 115-125.
DOI :
A Study on Formation of Ni-Tl-P deposits by Electroless Plating
무전해도금에 의한 Ni-Tl-P 피막형성에 관한 연구
류일광;추현식;
광주보건대학;조선대학교 공과대학 금속공학과;
한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 126-134.
DOI :
Effect of Silicon in Steels and Galvannealing Heat Cycles on Powdering Behavior of High Strength Galvannealed Steels
고강도 용융아연 도금강판의 파우더링 특성에 미치는 실리콘 및 합금화 열처리의 영향
이호종;오용택;김종상;
순천대학교 공과대학 재료금속공학과;포항제철 기술연구소;
한국표면공학회지, Vol. 33, No. 2, pp. 135-144.
DOI :